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          烏海高純特種氣體中單元高純氣體的品種及用途(二)

          2021-04-16 10:01:22

          烏海高純特種氣體是由兩大類氣體組成的。一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種,其中:

          電子氣體共114種,占總數的43.8%(實際常用的約44種);

          有機氣體共65種,占總數的25%;

          無機氣體共35種,占總數的13.4%;

          鹵碳素氣體共29種,占總數的11%;

          同位素氣體共17種,占總數的6.8%。

          本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。

          11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣;于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。

          12.氧化亞氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用作標準氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏;紅外光譜分析儀等也用。

          13.硫化氫-H2S,>99.999%,用作標準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,化學工業中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物;用作溶劑;實驗室定量分析用。

          14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標準氣;用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序;另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

          15.氰化氫-HCN,>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序;烏海高純特種氣體制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物;也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

          16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序;另外,用作氟化劑。

          17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣;用于半導體器件制備工藝中離子注入工序;也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

          18.碘化氫-HI,>99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序;還用于氫碘酸溶液制備。

          19.嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導體制備工藝中等離子干刻工序;用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。

          20.硅烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積等工序。

          21.乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相淀積。

          22.磷烷-PH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序;磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

          23.砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序。

          24.硼烷-B2H6,>99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序;用于有些化學工業合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。

          25.鍺烷-GeH4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

          26.銻烷-SbH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

          27.四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

          28.乙烷-C2H6,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序;還用于冶金工業的熱處理,化學工業中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。

          29.丙烷-C3H8,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;烏海高純特種氣體用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序;另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。

          30.硒化氫-H2Se,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

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