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          烏海高純特種氣體中單元高純氣體的品種及用途(三)

          2021-04-17 09:22:04

          烏海高純特種氣體是由兩大類氣體組成的。一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種,其中:

          電子氣體共114種,占總數的43.8%(實際常用的約44種);

          有機氣體共65種,占總數的25%;

          無機氣體共35種,占總數的13.4%;

          鹵碳素氣體共29種,占總數的11%;

          同位素氣體共17種,占總數的6.8%。

          本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。

          31.碲化氫-H2Te,>99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

          32二氯二氫硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

          33.三氯氫硅-SiHCl3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

          34.二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

          35.二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。

          36.二甲基鋅(CH5)2Zn,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

          37.二乙基鋅(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。

          38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝;PCl3是有機物的良好氯化劑;也用于含磷有機物的合成。

          39.三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。

          40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等離子干刻、擴散;作硼載氣及一些有機反應的催化劑;精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。

          41.四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

          42.四氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外延、離子注入。

          43.四氯化鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。

          44.烏海高純特種氣體四氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等離子干刻。

          45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

          46.五氯化銻-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

          47.六氯化鑰-MoCl6,>99.9%,用于化學氣相淀積。

          48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。

          49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、離子注入。

          50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于擴散工序。

          51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用于離子注入;另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑;精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。

          52.三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、離子注入工序;另外用作氟化劑。

          53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。

          54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、離子注入工序;用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定。

          55.三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等離子干刻工序;冷凍劑、空調均可用。

          56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等離子干刻工序;低溫冷凍劑。

          57.三氟化氮-NF3>99.99%,用于等離子干刻工序;火箭推進劑、氟化劑。

          58.三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調、低溫冷凍及滅火劑。

          59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。

          60.四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等離子干刻工序;烏海高純特種氣體在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。

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