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          烏海高純特種氣體中單元高純氣體的品種及用途(七)

          2021-04-24 09:51:42

          烏海高純特種氣體是由兩大類氣體組成的。一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種,其中:

          電子氣體共114種,占總數的43.8%(實際常用的約44種);

          有機氣體共65種,占總數的25%;

          無機氣體共35種,占總數的13.4%;

          鹵碳素氣體共29種,占總數的11%;

          同位素氣體共17種,占總數的6.8%。

          本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。

          201.R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作冷凍劑、空調。

          202.R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷凍劑、空調、噴霧。

          203.R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷凍劑、空調。

          204.全氟丁烷(R601)-C4F10,>99%,用作絕緣氣體。

          205.三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用于制備潤滑脂、油類、

          蠟類、塑料的聚合劑,聚三氟氯乙烯的單體。

          206.三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用于聚合反應和化學中間體。

          207.二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,>99.9%,用于化學合成中間體。

          208.1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是一個很重要的單體,用于生產塑料及彈性體。

          209.氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,用作標準氣;用作聚合劑、有機合成的中間體。

          210.氟乙烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,用作聚合劑、有機合成的中間體。

          211.氦-3–He3,>99.99%,充計數管;作稀釋制冷機超低溫冷源,可達4.5×10-3K。

          212.氦-4-He4,>99.99%,在空間應用的低溫火箭燃料、核反應堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓送氣。

          213,氘-D2,>99.95%,在核工業研究中應用在氖核加速器中作為拋射體;當放射丫能射線時作為中子源;在研究化學反應時,包括氫化合物,可作為軌跡用;用于生產重水(D2O)。

          214.氚-T2,>99.95%,用作標準氣,控制每升為1000微居里,有很廣泛的活潑性,與氖氬混合作為載氣,可用于檢測微量氮氣及其它稀有氣體?!?/p>

          215.氧-18-O218,>99%,可制備H218O、D218O、S18O2。

          216.氮-15-N215,>99%,可制備15NH3、16NO、15NO等。

          217.氬-36–Ar36,>99.99%,計量值用。

          218.氬-40-Ar40,>99.99%,計量值用。

          219.氖-20Ne20,>99.99%,計量值用。

          220.烏海高純特種氣體氖-22Ne22,>99.99%,計量值用。

          221.氪-85-Kr85,>99.99%,標準氣,控制每升為10微居里,充燈泡用。

          222.氪-86-Kr86,>99.9%用作標準氣。

          223.氙-133-Xe133,>99.9%,充燈泡用。

          224.碳-13-C13,>99%,可制備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。

          225.碳-14-C14,>99%,用作標準氣,控制每升為100微居里。

          226.碳-18-C18,>99%>99%,可制備C18O2、C18O。

          227.硫-35-S35,>99%,用作標準氣,控制每升為100微居里。(1983年5月整理)

          最近發現的12種,前10種為電子氣,后2種為有機氣體。

          1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用于等離子干刻。

          2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用于熱氧化。

          3.二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用于外延、化學氣相淀積。

          4.二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用于外延、化學氣相淀積。

          5.三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl,>95%,用于外延、化學氣相淀積。

          6.二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用于等離子干刻。

          7.六氟化硅-SiF2,>99.9%,用于等離子干刻。

          8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用于等離子干刻。

          9.異十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用于等離子干刻。

          10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用于等離子干刻。

          11.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。

          12.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。(1983年7月補充)

          1.二甲基鎘-(CH3)2Cd,純度>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          2.二乙基鎘-(C2H5)2Cd,>99.999%,電子氣,用于MOCVDo

          3.四甲基錫-(CH3)4Sn,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          4.四乙基錫-(C2H5)Sn,>99.999%,電子氣,_用于MOCVD。、

          5.三甲基砷-(CH3)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          6.三乙基砷-(C2H5)3As,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          7.三乙基銻-(C2H5)3Sb,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          8.二乙基銦-(C2H5)2ln,>99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

          9.二甲基銦-(CH3)2In,)99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

          10.二乙基鎂-(C2H5)2Mg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          11.二甲基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          12.二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          13.三甲基磷-(CH3)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          14.三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,電子氣,用于MOCVD。

          15.三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI,>99.9999%,電子氣,用于MOCVD。

          16.丙硅烷-Si3H8,>99%,電子氣,用于CVD。

          17.三氯化鋁-AlCl3,>99.999%,電子氣,用于外延。

          18.五氟化鉭-TaF5,>99.9%,電子氣,用于離子注入。

          19.五氟化鉈-TlF5,>99.9%,電子氣,用于離子注入。

          20.氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校正氣,用作冷凍劑。

          21.烏海高純特種氣體氟乙烯-C2H3F,>99.9%,校正氣,用于制聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。

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